同轴光源从侧面将光线发射到半反射镜上,反射镜再将光线反射到工件上。镜面反射光可以返回到相机,而工件表面如刻印伤痕等凹凸不平的部分产生的漫反射光则不能接受到。这样就使得工件的边缘点形成了对比度。而且,来自工件的光线越远,不能接受到的漫反射光就越多,形成更大的图像对比度和清晰度。
二、能够消除系统自身杂散光(鬼像)的方法。
1、技术领域原理图解,由光源4发出的光经过起偏镜1后成为线偏振光(图中的虚线表示偏振方向),偏振方向由起偏器1的起偏方向决定,这样就保证了照射到管镜7上的光束都为线偏光;按照上面所述的光路图解,线偏振光会经过1/4波片2后成为圆偏振光(如图中椭圆所示),圆偏振光的旋光方向由晶体的性质决定,圆偏振光经被测件后返回系统内,再经过一次1/4波片2后成为线偏振光(如图中的黑点所示);但此时的偏振方向与经过起偏器1的振动方向想到垂直,正好可以经过检偏镜3,检偏镜3的检偏方向和起偏镜1的起偏方向正好垂直。其中杂散光多由物镜系统5引起,此时的杂散光由于没经过1/4波片2,偏振方向和检偏器3的检偏方向垂直,不能进入管镜7,从而大大减小了杂散光(鬼像)对成像的影响。